Для получения материалов с высоким сухим остатком могут быть использованы и другие системы, например композиции на основе полиэфиров и аддуктов изоцианатов. Получение полиэфиров с необходимым для этих целей строением описано в [83]. Аналогично и эпоксидно-полиамидные системы можно отнести к системам с высоким сухим остатком в том случае, когда используются низкомолекулярные жидкие диэпоксиды. В этом случае можно применять и моноэпоксидные соединения в качестве реакционноспособных разбавителей.

2.11. радиационно-отверждаемые пленкообразователи

Радиационное отверждение включает отверждение пучком электронов, ультрафиолетовым (УФ) и инфракрасным (ПК) излучением. Все эти методы используются в промышленности. Росту их применения способствуют меньшее потребление энергии, лучшая защита окружающей среды и, особенно, применимость при защите покрытиями деревянных, бумажных и пластмассовых подложек. Для инициирования цепной полимеризации при отверждении УФ-излучением применяют фотоинициаторы, а в случае — термические инициаторы. При отверждении электронным пучком нет необходимости добавлять инициатор, так как электроны благодаря их собственной высокой энергии генерируют радикалы в полимеризующемся слое. Для этих целей используют обычно материалы с высоким сухим остатком, а типичная пленкообразующая система состоит из смеси форполимера и реакцион-носпособного разбавителя. Типичными форполимерами являются ненасыщенные полиэфиры, применяемые вместе с соответствующими винильными или акриловыми мономерами в качестве разбавителей. Обзор механизмов отверждения под влиянием УФ-, ИК-излучения и электронного пучка, а также соответствующих композиций дан в работах [84, 85].

Помимо уже описанных ранее ненасыщенных полиэфиров, для этих целей используются также эпоксидные и полиуретановые пленкообразователи. Эпоксиакрилаты получают реакцией диано-вых эпоксидных смол с акриловой кислотой. Полиуретановые пленкообразователи для фотоотверждении синтезируют взаимодействием ди- или полифункциональных изоцианатных аддуктов с гидроксиэтилакрилатом.

Определенное применение нашли также акрилаты простых и сложных полиэфиров, получаемые реакцией этерификации гидрок-силсодержащих простых или сложных полиэфиров акриловой кислотой. При получении всех акрилированных пленкообразователей необходимо тщательно контролировать содержание ингибитора, чтобы предохранить от преждевременной полимеризации. Кроме того, может потребоваться разбавление готового продукта мономером для достижения требуемой текучести. Основное достоинство форполимеров этого типа — низкая вязкость.

К мономерам, применяемым в качестве реакционноспособных разбавителей для регулирования вязкости, предъявляются определенные требования по вязкости, сольватирующей способности, летучести и фоточувствительности. Механизмы отверждения достаточно сложны и для каждой конкретной системы существует оптимальное соотношение олпгомер — мономер при данной дозе облучения, необходимое для достижения требуемых характеристик пленки. Акрилаты обладают наибольшей скоростью отверждения и обычно они полифункциональны. Из мономеров широко применяются гексаидиолдиакрилат и триметилолпропан-триакрилат. В настоящее время в промышленности производится широкий ряд таких многофункциональных мономеров. По реакционной способности ненасыщенных групп в радиационно-отверж-даемых системах мономеры располагаются в следующий ряд: акрилаты > метакрилаты > аллильные > винильные.


⇐ вернуться назад| |читать дальше ⇒